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薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术书籍详细信息
- ISBN：9787030699152
- 作者：暂无作者
- 出版社：暂无出版社
- 出版时间：2022-08
- 页数：148
- 价格：65.90
- 纸张：胶版纸
- 装帧：平装胶订
- 开本：16开
- 语言：未知
- 丛书：暂无丛书
- TAG：暂无
- 豆瓣评分：暂无豆瓣评分
寄语：
陈吉堃
内容简介：
低温等离子体被广泛应用于脉冲激光沉积、磁控溅射、等离子体增强化学气相沉积等现代半导体薄膜真空沉积技术中，并承担着薄膜组分物质输运、薄膜形核与生长动力学调控等关键性角色。由于等离子体性质是联系薄膜真空沉积条件与沉积性能的关键性纽带，以对等离子体性质的表征与探测为突破口并建立其与薄膜沉积条件和性能之间的基础关系，有助于从理论角度为薄膜沉积条件的设计与动力学过程优化提供依据。本书结合作者的长期相关研究系统介绍了低温等离子体的常用探测方法；重点结合脉冲激光沉积实例对等离子体与背景气体间复杂的物理碰撞与化学反应，以及对薄膜沉积的基础性影响关系作详细介绍。
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其它内容：
书籍介绍
低温等离子体被广泛应用于脉冲激光沉积、磁控溅射、等离子体增强化学气相沉积等现代半导体薄膜真空沉积技术中，并承担着薄膜组分物质输运、薄膜形核与生长动力学调控等关键性角色。由于等离子体性质是联系薄膜真空沉积条件与沉积性能的关键性纽带，以对等离子体性质的表征与探测为突破口并建立其与薄膜沉积条件和性能之间的基础关系，有助于从理论角度为薄膜沉积条件的设计与动力学过程优化提供依据。《薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术》结合作者的长期相关研究系统介绍了低温等离子体的常用探测方法；重点结合脉冲激光沉积实例对等离子体与背景气体间复杂的物理碰撞与化学反应，以及对薄膜沉积的基础性影响关系作详细介绍。
书籍真实打分
故事情节：3分
人物塑造：8分
主题深度：8分
文字风格：3分
语言运用：4分
文笔流畅：3分
思想传递：5分
知识深度：4分
知识广度：3分
实用性：5分
章节划分：3分
结构布局：4分
新颖与独特：5分
情感共鸣：7分
引人入胜：3分
现实相关：4分
沉浸感：3分
事实准确性：9分
文化贡献：9分
网站评分
书籍多样性：6分
书籍信息完全性：4分
网站更新速度：4分
使用便利性：9分
书籍清晰度：6分
书籍格式兼容性：6分
是否包含广告：5分
加载速度：5分
安全性：8分
稳定性：6分
搜索功能：4分
下载便捷性：7分
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